DNP investiert in Rapidus, um die Einrichtung einer Massenproduktion für Halbleiter der nächsten Generation zu unterstützen

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) gab heute bekannt, dass es sich als einer der Investoren an der Finanzierungsrunde von Rapidus Corporation beteiligt hat. Diese strategische Finanzierungsinitiative unterstützt den Plan von Rapidus, bis 2027 schrittweise von der aktuellen Forschungs- und Entwicklungsphase zur Massenproduktion von 2-nm-Logikhalbleitern (10⁻⁹ Meter) überzugehen.

Durch diese Initiative wird DNP die Entwicklung und Massenproduktion von EUV-Lithografie-Fotomasken vorantreiben und Rapidus beim Aufbau eines Massenproduktionssystems für 2-nm-Halbleiter und Halbleiter der nächsten Generation unterstützen.

Hintergrund

In den letzten Jahren ist der Anstieg des Energieverbrauchs im Zuge der zunehmenden Datengenerierung zu einer Herausforderung geworden, die die Nachfrage nach Halbleitern der nächsten Generation vorantreibt, die die Geräteleistung verbessern und den Stromverbrauch senken können.

Halbleiter der nächsten Generation, die mit EUV-Lithografie hergestellt werden, ermöglichen die Bildung feinerer Muster auf Siliziumwafern als mit derzeit verfügbaren Technologien. Dies wiederum weckt Erwartungen hinsichtlich der Realisierung von Halbleitern mit höherer Leistung und geringerem Stromverbrauch.

Vor diesem Hintergrund wurde DNP im Jahr 2024 als Subunternehmer für Rapidus im Rahmen des Forschungs- und Entwicklungsprojekts zur Verbesserung der Informations- und Kommunikationssysteminfrastruktur nach 5G ausgewählt, das von der New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO) geleitet wird. Im Rahmen dieses Projekts hat DNP die Entwicklung von Herstellungsprozessen für EUV-Lithografie-Fotomasken der 2-nm-Generation vorangetrieben.

Mit Blick auf das Ziel von Rapidus, im Jahr 2027 die Massenproduktion von Logikhalbleitern der 2-nm-Generation zu erreichen, strebt DNP an, frühzeitig eine hochproduktive und schnell lieferbare Produktion von EUV-Lithografie-Fotomasken für die 2-nm-Generation zu realisieren. Unsere Investition wird die bisher gepflegte Partnerschaft zwischen unseren beiden Unternehmen weiter stärken.

Ausblick

DNP positioniert EUV-Lithografie-Fotomasken als wichtigen Wachstumsmotor für sein Halbleitergeschäft. Wir werden weiterhin proaktiv investieren und gleichzeitig die Technologieentwicklung mit Blick auf die noch feinere 1,4-nm-Generation und darüber hinaus vorantreiben. Durch diese Bemühungen wird DNP zum Wachstum der japanischen Halbleiterindustrie beitragen.

Weitere Einzelheiten

Über DNP

DNP wurde 1876 gegründet und hat sich zu einem weltweit führenden Unternehmen entwickelt, das printbasierte Lösungen nutzt, um neue Geschäftsmöglichkeiten zu erschließen, gleichzeitig die Umwelt zu schützen und eine lebendigere Welt für alle zu schaffen. Wir nutzen unsere Kernkompetenzen in den Bereichen Mikrofabrikation und Präzisionsbeschichtungstechnologie, um Produkte für die Märkte für Displays, elektronische Geräte und optische Folien anzubieten.

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