DNP ottiene una risoluzione del modello lineare da 10 nm su un modello di nanostampa per semiconduttori all'avanguardia
DNP ottiene una risoluzione del modello lineare da 10 nm su un modello di nanostampa per semiconduttori all'avanguardia
- Supporta i semiconduttori di generazione da 1,4 nm, riduce i costi di produzione e il consumo energetico -
TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) oggi ha annunciato lo sviluppo di un modello di nanolitografia (NIL) con un'ampiezza di linea del circuito pari a 10 nanometri (1 nm = 10-9 metri). Il nuovo modello consente la realizzazione di modelli di semiconduttori logici equivalenti alla generazione da 1,4 nm e soddisfa i requisiti di miniaturizzazione dei semiconduttori logici all'avanguardia.
Informazioni e obiettivi
In linea con il passaggio a dispositivi più sofisticati visti negli ultimi anni, sono emerse richieste di miniaturizzazione ancora maggiore in semiconduttori all'avanguardia, che hanno portato a progressi nella produzione basata sulla litografia ultravioletta estrema.
Il testo originale del presente annuncio, redatto nella lingua di partenza, è la versione ufficiale che fa fede. Le traduzioni sono offerte unicamente per comodità del lettore e devono rinviare al testo in lingua originale, che è l'unico giuridicamente valido.
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